Periodo de publicación recogido
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Optimal CBPM policy considering maintenance effects and environmental condition.
T. Xia, J. Lee, L. Xi, X. Zhou
International journal of advanced manufacturing technology, ISSN 0268-3768, Vol. 56, Nº. 9-12, 2011, págs. 1181-1194
Characteristics of metal-oxide-semiconductor (MOS) device with Er metal gate on SiO2 film.
C.-J. Choi, H.-Y. Yang, H.-B. Hong, J.-G. Kim, S.-Y. Chang, J. Lee
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 4, 2009, págs. 463-465
Feature extraction and damage-precursors for prognostication of lead-free electronics.
P. Lall, M. Hande, C. Bhat, N. Islam, J. Suhling, J. Lee
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 12, 2007, págs. 1907-1920
Density functional theory of high-k dielectric gate stacks.
A.A. Demkov, O. Sharia, Xuhui Luo, J. Lee
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 686-693
J. Lee, P. Ekanayake, Y.D. Lee
Food science and technology international = Ciencia y tecnología de alimentos internacional, ISSN-e 1532-1738, ISSN 1082-0132, Vol. 10, Nº 3, 2004, págs. 171-178
Comparasion of the Two Formulations of w.u.v and w-F in Nonlinear Plate Analysis
J. Lee
Journal of applied mechanics, ISSN 0021-8936, Vol. 69, Nº. 4, 2002 (Ejemplar dedicado a: Nanomechanics of Surfaces and Interfaces), págs. 547-551
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