The need for multi-scale approaches in Cu/low-k reliability issues.

• Autores: C.A. Yuan, O. van der Sluis, W.D. van Driel, G.Q. Zhang
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 48, Nº. 6, 2008, págs. 833-842
• Idioma: inglés
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