Sources and sinks of CF and CF~2 in a cc-RF CF~4-plasma under various conditions
U. Czarnetzki, A. Francis, P. Fendel
págs. 1-11
R. S. Rawat, J. M. Koh
págs. 12-18
Molecular dissociation in N~2-H~2 microwave discharges
C. M. Ferreira, F. M. Dias, E. Tatarova, B. Gordiets
págs. 19-31
págs. 32-35
Y. B. Golubovskii
págs. 36-44
Y. B. Golubovskii
págs. 45-50
M. Abdel-Rahman
págs. 51-60
Plasma focus as a possible x-ray source for radiography
S. Hussain, M. Shafiq
págs. 61-69
On NO~x production and volatile organic compound removal in a pulsed microwave discharge in air
L. Gatilova, A. Rousseau, A. Dantier
págs. 70-75
págs. 76-82
págs. 83-88
Ion energy distribution control in single and dual frequency capacitive plasma sources
O. V. Manuilenko, J. K. Lee
págs. 89-97
O. V. Manuilenko
págs. 98-108
V. F. Bratsev, N. K. Bibinov
págs. 109-128
Modelling of discharges in a flow of preheated air
M. S. Benilov, G. V. Naidis
págs. 129-133
Y. Tanaka, T. Michishita
págs. 134-151
Two-dimensional equilibrium of a low temperature magnetized plasma
G. Makrinich, A. Fruchtman, J. Ashkenazy
págs. 152-167
págs. 168-176
págs. 177-183
Second derivative Langmuir probe diagnostics of Ar/O~2 gas discharge for DC YBCO-124 sputtering
N. A. Stelmashenko, T. K. Popov, V. N. Tsaneva
págs. 184-190
A. Bogaerts, A. Okhrimovskyy
págs. 191-200
N. Hershkowitz, L. Oksuz
págs. 201-208
© 2001-2024 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados