Hollow cathode discharges with gas flow: numerical modelling for the effect on the sputtered atoms and the deposition flux

• Autores: A. Bogaerts, A. Okhrimovskyy
• Localización: Plasma sources: science & technology, ISSN 0963-0252, Nº. 1, 2005, págs. 191-200
• Idioma: inglés
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