Transient interferometric mapping of carrier plasma during external transient latch-up phenomena in latch-up test structures and I/O cells processed in CMOS technology.

• Autores: M. Heer, K. Domanski, K. Esmark, U. Glaser, D. Pogany, E. Gornik, W. Stadler
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 12, 2009, págs. 1455-1464
• Idioma: inglés
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