Nanometer-scale leakage measurements in high vacuum on de-processed high-k capacitors.

• Autores: W. Polspoel, W. Vandervorst, L. Aguilera, M. Porti, Montserrat Nafria i Maqueda, Xavier Aymerich Humet
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 48, Nº. 8-9, 2008, págs. 1521-1524
• Idioma: inglés
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