Modificaciones estructurales en el oxido de silicio termico inducidas por los procesos tecnologicos en microelectronica: aplicacion de la espectroscopia infrarroja
- Autores: Blas Garrido Fernández
- Lectura: En la Universitat de Barcelona ( España ) en 1993
- Idioma: español
- Tribunal Calificador de la Tesis: Joan Ramon Morante Lleonart (presid.), Carlos Dominguez Horna (secret.), Emilio Lora-Tamayo D'Ocón (voc.), Gerard Sarrabayrouse (voc.), Xavier Aymerich Humet (voc.)
- Materias:
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- Resumen
A LO LARGO DE ESTE TRABAJO SE HAN ESTUDIADO LA ESTRUCTURA Y PROPIEDADES DEL SIO2 Y DE SU INTERFICIE CON EL SILICIO.
LA ESTRUCTURA DEL SISTEMA DEPENDE DE LA TECNOLOGIA EMPLEADA EN EL CRECIMIENTO DEL OXIDO Y DE LOS TRATAMIENTOS ANTERIORES Y POSTERIORES AL PROCESO DE OXIDACION. SE HA REALIZADO UN ANALISIS COMPARATIVO ENTRE LOS OXIDOS CRECIDOS EN HORNO CONVENCIONAL Y RTO. SE HA ESTUDIADO EL INFLUJO DE LOS TRATAMIENTOS TERMICOS DE RECOCIDO.
SE HA ANALIZADO LA INFLUENCIA DE LAS LIMPIEZAS DE LA SUPERFICIE DEL SILICIO ANTERIORES AL PROCESO DE OXIDACION. POR EJEMPLO, UN ANALISIS COMPARATIVO DEL ESTADO DE LA SUPERFICIE DEL SILICIO DESPUES DE UN TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE CON LIMPIEZAS RCA CON ETAPA FINAL DE HF DILUIDO EN AGUA Y HF DILUIDO EN ETANOL. LOS ANALISIS CONFLUYEN EN LA PRESENCIA DE UNA CAPA DE OXIDO NATIVO DE MAYOR ESPESOR EN EL PRIMER CASO. LA MICROSCOPIA DE FUERZAS ATOMICAS REVELA MAYOR RUGOSIDAD DE LA SUPERFICIE TRATADA CON HF DILUIDO EN AGUA. SE HA VERIFICADO QUE LA LEY DE EVOLUCION DEL ESTRES EN EL OXIDO CON RESPECTO AL TIEMPO DE RECOCIDO SIGUE UNA LEY EXPONENCIAL CON UN TIEMPO DE RELAJACION CARACTERISTICO.
SE HAN ESTUDIADO LOS EFECTOS DE DEGRADACION Y DAÑADO DE CAPAS GRUESAS DE OXIDO DE SILICIO AMORFO IRRADIADAS CON AR. SE HAN CRECIDO CAPAS DE OXIDO Y DESPUES SE HA PROCEDIDO A SU IMPLANTACION CON DOSIS DE IONES DE ARGON CON ENERGIAS ENTRE 130 Y 150 KEV. SE HA ESTUDIADO TAMBIEN LA RECUPERACION DE LAS ESTRUCTURAS DESPUES DE UN PROCESO DE RECOCIDO.
SON MUCHAS LAS TECNICAS DE ANALISIS QUE SE HAN UTILIZADO: XPS, TEM, SEM, AFM, ELIPSOMETRIA, MEDIDAS ELECTRICAS, ETC. SIN EMBARGO, NUESTRO TRABAJO HA ESTADO EN GRAN PARTE DEDICADO AL DESARROLLO Y APLICACION DE NUEVAS TECNICAS EXPERIMENTALES Y TECNICAS DE MANIPULACION Y DE ANALISIS RELACIONADAS CON LA ESPECTROSCOPIA INFRARROJA POR TRANSFORMADA DE FOURIER, PARA LA CUAL SE HAN DESARROLLADO PROGRAMAS DE SIMULACION Y DE OBTENCION DE LA FUNCION DIELECTRICA DE LAS CAPAS.
