Resumen de Caracterización de capas delgadas de silicio obtenidas mediante evaporación con haz de electrones
Se presenta el desarrollo de un método de obtención de capas delgadas de silicio mediante evaporación con haz de electrones la caracterización del material obtenido en cuanto a su estructura morfológica y cristalina propiedades ópticas y eléctricas y la fabricación y medida de diversos dispositivos realizados con este material. Los resultados indican que la estructura morfológica es de tipo microcolumnar siendo el material amorfo o policristalino según la temperatura de deposición sea inferior o superior a 400 C respectivamente. Se propone un modelo de mezcla de fases amorfa y cristalina que explica satisfactoriamente los resultados obtenidos en cuanto a propiedades ópticas eléctricas y características de los dispositivos.
