Periodo de publicación recogido
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Fermi-Level Depinning of Ge Schottky Junction Using Se Treatment
Y.R. Lim, Y.J. Lee, K.H. Shim, V. Janardhanam, C.J. Choi
SiGe and Ge: materials, processing, and devices / D. Harane (dir. congr.), 2006, ISBN 978-1-62332-186-4, págs. 411-416
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