Periodo de publicación recogido
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Mechanism of gate dielectric degradation by hydrogen migration from the cathode interface
Yusuke Higashi, Riichiro Takaishi, Koichi Kato, Masamichi Suzuki, Yasushi Nakasaki, Mitsuhiro Tomita, Yuichiro Mitani, Masuaki Matsumoto, Shohei Ogura, Katsuyuki Fukutani, Kikuo Yamabe
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Nº. 70, 2017, págs. 12-21
Kei Nishimura, Koichi Kato, Yoichi Muraoka
Proceedings of the IADIS International Conference WWW/INTERNET 2004: Madrid, Spain, October 6-9, 2004 / coord. por Pedro Isaías, Nitya Karmakar, Vol. 2, 2004 (Short Papers-Posters), ISBN 972-99353-0-0, págs. 1069-1074
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