Periodo de publicación recogido
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Fabrication of Rugate Optical Filters Using a-SiOx: H THin Films
H. Yoda, K. Muro, K. Shiraishi
IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 91, Nº 10, 2008, págs. 1639-1643
Physical Origin of Stress-Induced Leakage Currents in Ultra-Thin Silicon Dioxide Films
T. Endoh, K. Hirose, K. Shiraishi
IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 90, Nº 5, 2007, págs. 955-961
Design of Four-Stage Millimeter Wave BPF Using the Whispering-Gallery Mode Dielectric Disk Resonator
Y. Tomabechi, K. Matsumura, Y. Sato, Y. Kogami, K. Shiraishi
IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 86, Nº 8, 2003, pág. 1621
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