Etch Pit Formation on Germanium Alloys by in situ Gaseous Hydrogen Chloride Etching

• Y.C. Huang ^[1] ; C. Wang ^[1] ; Y. Kim ^[1]
  1. [1] Applied Materials, Inc.
• Localización: SiGe and Ge: materials, processing, and devices / D. Harane (dir. congr.), 2006, ISBN 978-1-62332-186-4, págs. 223-230
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)