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Fast and Accurate in-Line Monitor of Boron Implantation Energy and Dose by Spectroscopic Ellipsometry
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United Microelectronics Corp. (UMC)
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KLA-Tencor Corporation
Localización:
SiGe and Ge
:
materials, processing, and devices
/
D. Harane
(
dir. congr.
), 2006,
ISBN
978-1-62332-186-4,
págs.
417-422
Idioma:
inglés
Texto completo no disponible
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