UV excimer laser assisted heteroepitaxy of (Si)GeSn on Si(100)

• Stefano Chiussi ^[1] ; Stefan Stefanov ^[1] ; Alessandro Benedetti ^[1] ; Carmen Serra ^[1] ; Dan Buca ^[3] ; Jörg Schulze ^[2] ; Pio González ^[1]
  1. [1] Universidade de Vigo

     Universidade de Vigo

     Vigo, España

     
  2. [2] Institut für Halbleitertechnick
  3. [3] Peter Grünberg Institute 9 and JARA

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• Localización: SiGe and Ge: materials, processing, and devices / D. Harane (dir. congr.), 2006, ISBN 978-1-62332-186-4, págs. 115-125
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)