METROPOLE-3D: An Efficient and Rigorous 3D Photolithography Simulator

• Autores: A. J. Strojwas, X. Li, K. D. Lucas
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 82, Nº 6, 1999, págs. 821-829
• Idioma: inglés
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