3-D Topography and Impurity Integrated Process Simulator (3-D MIPS) and Its Applications

• Autores: E. Tsukuda, K. Sonoda, K. Eikyu, K. Ishikawa, T. Nishimura, S. Kawazu, M. Fujinaga, T. Kunikiyo, T. Uchida
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 82, Nº 6, 1999, págs. 848-861
• Idioma: inglés
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