Dielectric thinning model applied to metal insulator metal capacitors with Al2O3 dielectric.

• Autores: K.H. Allers, J. Böck, S. Boguth, K. Goller, H. Knapp, R. Lachner
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 12, 2009, págs. 1520-1528
• Idioma: inglés
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