Charging control on high energy implanters: A process requirement demonstrated by plasma damage monitoring.

• Autores: C. Cantin, C. Laviron, G. Gove
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 2, 2009, págs. 209-214
• Idioma: inglés
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