Resumen de Deposición inducida por laser de películas de platino para la tecnología microelectrónica
En el trabajo se aborda el estudio, tanto teórico como experimental, de una novísima técnica de fabricación de películas delgadas mediante radiación laser, denominada LCUD, susceptible de ser aplicable en diversos campos de la ciencia y de la técnica (microelectrónica, metalurgia, etc.) se ha desarrollado un modelo matemático para el cálculo de la distribución de temperaturas inducida por la radiación laser que mejora los desarrollados hasta el momento por otros autores y permite una estrecha interpretación de los resultados experimentales obtenidos. Se ha aplicado el método a la fabricación de películas de platino que pueden sustituir a las metalizaciones de aluminio utilizadas actualmente en la fabricación de dispositivos en la industria de la microelectrónica. Se ha optimizado el método de fabricación de tales películas en función de los diferentes parámetros que controlan el proceso y las líneas de interconexión obtenidas así como los diodos Schottky fabricados sobre sustratos de silicio presentan propiedades adecuadas para su posible utilización en la tecnología VLSI.
