Estudio de la estructura electrónica de intercaras TIO2/óxico mediante espectroscopías con radiación sincrotrón

• Autores: Marta Sánchez Agudo
• Directores de la Tesis: L. Soriano (dir. tes.)
• Lectura: En la Universidad Autónoma de Madrid ( España ) en 2003
• Idioma: español
• Tribunal Calificador de la Tesis: José María Sanz (presid.), Juan Francisco Trigo Escalera (secret.), Rodolfo Miranda Soriano (voc.), Maurizio Sacchi (voc.), Agustín Rodríguez González-Elipe (voc.)
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• Resumen

  • Las intercaras y superficies son sistemas únicos cuyas características pueden se completamente diferentes a las de los materiales en volumen.

    En particular las superficies e intercaras de óxidos de metales juegan un papel muy importante en numerosas aplicaciones como son catálisis, microelectrónica, recubrimientos ópticos, sensores, etc. Esta tesis se centra en el estudio de intercaras TiO2/Óxido mediante espectroscopías con radiación sincrotrón.

    Para este estudio se ha depositado TiO2 por evaporación térmica de Ti en presencia de O2 a temperatura ambiente. Como sustratos se han utilizado: SiO2, Al2O3, MgO, alfa-FeO3, Fe3O4, Au y HOPG. Las técnicas de caracterizació utilizadas han sido: espectroscopía de absorción de rayos-X (XAS) y espectroscopía de fotoemisión resonante (RPES). Hay que resaltar que las caracterizaciones se han realizado in situ.

    El trabajo realizado ha permitido constatar la existencia de una fuerte interacción del dióxido de titanio depositado con el sustrato cuando éste es un óxido. Esta interacción se manifiesta en la densidad de estados no ocupados Ti 3d, estudiados a través del borde de absorción Ti 2p. De forma complementaria se ha estudiado la densidad de estados Ti 3d ocupados a partir de las medidas de fotoemisión resonante de la banda de valencia en el borde Ti 2p-3d. Si el sustrato utilizado es un metal, se observa una inhibición de la oxidación del titanio para muy bajo recubrimiento.