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Propiedades mecánicas de metales, semiconductores y aleaciones mediante cálculos de primeros principios

  • Autores: José Humberto Camacho García
  • Directores de la Tesis: Juan Francisco Rivas Silva (dir. tes.), Alejandro Bautista Hernández (dir. tes.)
  • Lectura: En la Benemérita Universidad Autónoma de Puebla (BUAP) ( México ) en 2015
  • Idioma: español
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  • Resumen
    • “En este trabajo presentamos un estudio del esfuerzo ideal (a compresión hidrostática) aplicado a diferentes materiales cristalinos (metales, semiconductores y aleaciones), con el objetivo de comprender más a fondo las causas físicas que hacen inestable a un material. Por lo tanto, se estudiaron 7 metales de transición (Pb, Au, Ag, Pd, Pt, Rh, Ir) con estructura cúbica centrada en las caras (fcc por sus siglas en inglés) y también los metales Ti, Zr y Hf en una fase metaestable fcc. En el caso de los materiales semiconductores se estudiaron compuestos GaX (X=N, P, As, Sb, Bi) y MoX (X=V,Nb, Ta) para las aleaciones estudiadas. Para realizar dicho estudio se utilizó la Teoría de Funcionales de la Densidad (DFT). Parámetros de red, módulos de compresibilidad, de corte, y de Young, se obtienen en estado base. Las constantes elásticas se obtienen en función de la presión aplicada. Las condiciones de estabilidad para los sistemas elásticos cúbicos bajo presión hidrostática son. donde Cij representan las constantes elásticas y  representa el esfuerzo aplicado. La condición (1) corresponde a la desaparición del módulo de compresibilidad B0. La segunda condición de estabilidad (2) es propia de una inestabilidad de esfuerzo al corte cuando el sistema reduce su simetría hacia la tetragonal o la ortorrómbica.”


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