Se trata de un trabajo de carácter experimental centrado en el diseño de un sistema de deposición de películas delgadas sobre substratos polimericos utilizando la tecnología de deposito químico asistido por plasma o PECVD.
Asimismo ha sido desarrollada una doble estructura protectora e interferencial que se deposita en el mencionado sistema de deposición. Han sido estudiadas las propiedades ópticas, químicas y mecánicas de las diferentes películas integrantes de las estructuras depositadas sobre los substratos para obtener datos sobrel os que se ha basado la posterior optimización del conjunto.
Destacan los resultados posterior optimización del conjunto. Destacan los resultados comparativos con las películas depositadas por los métodos convencionales usados en la industria en la actualidad.
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