Estudio teórico de la estructura y las propiedades electrónicas y vibracionales de las aleaciones amorfas de silicio

• Autores: PabloJ. Ordejón Rontomé
• Directores de la Tesis: Félix Yndurain (dir. tes.)
• Lectura: En la Universidad Autónoma de Madrid ( España ) en 1992
• Idioma: español
• Tribunal Calificador de la Tesis: Fernando Flores Sintas (presid.), Luis Seijo (secret.), Emilio San-Fabián (voc.), Etienne Bustarret (voc.), José Antonio Vergés Brotons (voc.)
• Materias:
  • Física
    • Física del estado sólido
      • Estados no cristalinos
      • Semiconductores
• Enlaces
  • Tesis en acceso abierto en: Biblos-e Archivo
• Resumen

  • El estudio de las aleaciones amorfas de slilcio es un problema muy complejo desde el punto de vista teorico, debido a la falta de periodicidad y al desroden estructural y quimico que presentan estos materiales. Por ello, hasta hace muy poco solo se han presentado trabajos parametrizados. En esta tesis se presenta un metodo de calculo no parametrizado que, a partir de primeros principios, permite el estudio de la estructura (distancias y angulos de enlace) y las propiedades electronicas y vibracionales de estas aleaciones. El metodo desarrollado se ha aplicado con exito al estudio de las aleaciones a-si:h, a-siox, y a-sioxny. Se presenta una comparacion detallada con la informacion experimental disponible de diversas tecnicas como dispersion de neutrones y rayos x, exafs, fotoemision, emision de rayos x, espectrosopia infrarroja y raman, etc.