Estudio de aleaciones silicio-carbono depositadas mediante técnicas asistidas por plasma de resonancia ciclotron de electrones
- Autores: Francisco Javier Gómez Arribas
- Lectura: En la Universidad Autónoma de Madrid ( España ) en 1996
- Idioma: español
- Tribunal Calificador de la Tesis: José Manuel Martínez Duart (presid.), Eduardo Elizalde Pérez-Grueso (secret.), Germán González Díaz (voc.), Ignacio Mártil de la Plaza (voc.), Juan Jimenez (voc.)
- Materias:
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- Resumen
Se han depositado capas de aleaciones silicio-carbono y silicio-carbono-nitrógeno sobre silicio, por deposición química en fase vapor, asistida por plasma de resonancia ciclotrón de electrones (ecr-cvd), a baja temperatura de sustrato.
Se han conseguido una completa deshidrogenacion de las capas de a-sic: H empleando tratamientos térmicos rápidos a alta temperatura en vacío.
Se han optimizado las condiciones de deposición consiguiéndose un crecimiento de capas de sic microcristalino con temperaturas de sustrato inferiores a 500 grados c.
Se han conseguido capas de sicxny uniformemente depositadas y que no presentan problemas elásticos de relajación o compresión. Se ha obtenido una relación entre las propiedades ópticas de las capas depositadas con los parámetros de deposición y más concretamente se ha encontrado que son controlables con la variación de la razón entre los gases precursores.
