Se ha estudiado la oxidacion en plasma re de oxigeno a potencial flotante de peliculas delgadas de tasix (x comprendido entre 0.3 y 4.5) y de aleaciones de sige, en el rango de 400-800 c. Se han analizado las cineticas de oxidacion, naturaleza del oxido y fenomenos de transporte atomico, asi como las caracteristicas electricas de los oxidos crecidos, mediante curvas i-v, c-v y dispersion de la capacidad en funcion de la frecuencia. Las cineticas de oxidacion son principalmente de tipo parabolico, indicando la difusion del oxigeno a traves del oxido, mediante un mecanismo de transporte atomico de corto alcance. La oxidacion de peliculas de tasix conduce a la formacion de sio2 o de un oxido mixto de sio2-ta2o5 dependiendo de la composicion de la pelicula, de la temperatura y la naturaleza del sustrato. La oxidacion de aleaciones de sige conduce a la formacion de sio2 en superficie con ritmos de oxidacion notablemente mayores que para el si puro, poniendo de manifiesto el efecto catalizador del ge.
© 2001-2024 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados