Las láminas delgadas de ZrO sub 2 y CeO sub 2 se han depositado mediante un método por doble haz de iones donde el segundo haz de iones de baja energía (20-80 eV) incide directamente sobre la película en crecimiento. Se ha relacionado la composición, estructura y constantes ópticas de las láminas con las condiciones de deposición, especialmente con la energía y flujo del segundo haz de iones. Así mismo, se ha determinado la influencia en el comportamiento de ambos materiales de pequeñas cantidades de impurezas metálicas que se incorporan en las láminas de forma inherente al proceso de deposición.
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