Micro and nanostructured coatings by chemical vapor deposition in a fluidized bed reactor (fbr-cvd)

• Autores: Jordi Pérez Mariano
• Directores de la Tesis: Carles Colominas Guàrdia (dir. tes.)
• Lectura: En la Universitat Ramon Llull ( España ) en 2005
• Idioma: español
• Tribunal Calificador de la Tesis: Lluís Victori Companys (presid.), Jordi Teixidó i Closa (secret.), Zineb Mekhalif (voc.), Ángel Sanjurjo Bermúdez (voc.), Francisco Javier Pérez Trujillo (voc.)
• Materias:
  • Física
    • Física del estado sólido
  • Ciencias tecnológicas
    • Tecnología de materiales
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• Resumen

  • Se ha estudiado la deposición de varios recubrimientos metálicos y cerámicos sobre acero mediante deposición química la fase vapor en reactores de lecho fluido (FBR-CVD). Se han obtenido recubrimientos por difusión de Si y Cr en lechos de partículas metálicas mediante la generación in situ de los precursores por reacción con HCI. La difusión de Si y nitruración (siliconitruración) se ha efectuado en reactores de doble lecho: un lecho fijo de partículas metálicas y un lecho fluido de partículas de alúmina. Se han depositado dos tipos de recubrimientos cerámicos, nitruro de silicio (SiNx) y nitruro de titanio, mediante la reacción de los precursores (SiCl4 y TiCl4) con NH3 en lechos de partículas inertes. Se ha desarrollado la técnicas de FBR-CVD para la deposición de recubrimientos avanzados basados en TiN, con mayores durezas y mejor resistencia a la oxidación que recubrimientos de TiN. Por una parte, multicapas en las que capas de TiN se han alternado con capas de TaNx o SiNx han sido depositadas con periodicidades en el rango nanmétrico. Por otra parte, la codeposición de TiN y SiNx se ha optimizado para obtener recubrimientos formados por materiales compuestos a escala nanométrica. A parte de los experimentos de FBR-CVD, se ha llevado a cabo un estudio de CVD: la síntesis de nanowires de silicio sobre varios substratos con otro mediante crecimiento vapor-líquido-sólido.