El trabajo realizado tiene como objetivo el estudio de las propiedades fisicas y quimicas de superficies con defectos. Un tipo de estos defectos lo constituyen los agregados de unos pocos atomos. La primera parte de este trabajo ha consistido en caracterizar el crecimiento de vapores metalicos depositados sobre sustratos monocristalinos. En concreto se ha estudiado el crecimiento de pt/ag(iii) cu/pt(iii) pt/cu(100) co/gr(iii) co/cu(100) co/cu(iii). En el sistema co/cu se han hecho experimentos de adsorcion de co y o2. Tambien se ha estudiado la dependencia de la actividad quimica con el numero de defectos presentes en una superficie sometida a diversas dosis de irradiacion por iones ar+. En esta linea se ha estudiado la adsorcion de co o2 y h2o en una superficie de fe(110) y en superficies sometidas a diversas dosis de daño por bombardeo ionico. En todos los casos se han obtenido diferencias sustanciales en la actividad quimica de las superficies dañadas con respecto a la superficie ordenada.
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