EL OBJETIVO DE ESTE TRABAJO HA SIDO LA OBTENCION DE CAPAS DELGADAS DE TIN A PARTIR DEL DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR ASISTIDO POR PLASMA RF. SE HA CONSTRUIDO EN EL LABORATORIO UN REACTOR PILOTO DE PACUD QUE PERMITE LA OBTENCION DE CAPAS DELGADAS DE TIN A PARTIR DE UNA MEZCLA GASEOSA DE N2, H2 Y VAPOR DE TICL4. UNO DE LOS RESULTADOS MAS IMPORTANTES CONSEGUIDOS ES LA OBTENCION DE CAPAS DELGADAS DE TIN, DE HASTA 3 UM DE ESPESOR CON BUENAS PROPIEDADES MECANICAS, A UN VALOR DE LA TEMPERATURA INFERIOR A 55 C. LA ESTRUCTURA DE LAS CAPAS DE TIN ES DE TIPO COLUMNAR Y PRESENTAN UN GRADO DE CRISTALINIDAD ELEVADO, CON UNA FUERTE ORIENTACION PREFERENCIAL EN LA DIRECCION (200). LAS PROPIEDADES DE LAS CAPAS DELGADAS DE TIN OBTENIDAS MEDIANTE PACVD DEPENDEN DE LOS PARAMETROS TECNOLOGICOS. EL RITMO DE DEPOSITO DE LAS CAPAS AUMENTA AL INCREMENTAR: LA TEMPERATURA DE DEPOSITO, LA PRESION TOTAL DE LOS GASES REACTIVOS, LA POTENCIA DE LA DESCARGA R.F., LA PRESION PARCIAL DE TICL4 O LA PRESION PARCIAL DE N2. SE HAN REGISTRADO VALORES DEL RITMO DE DEPOSITO COMPRENDIDOS ENTRE 0,1 Y 3 NM/S. LAS CAPAS DE TIN OBTENIDAS CONTIENEN IMPUREZAS DE CLORO QUE MODIFICAN LAS PROPIEDADES DEL RECUBRIMIENTO LAS CAPAS CON UN CONTENIDO DE CLORO INFERIOR AL 2% EN ATOMOS PRESENTAN UNA MICRODUREZA SUPERIOR A 2200 KP/MM2.
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