Resumen de Caracterizacion por espectroscopia raman de polisilicio para aplicacion en micromecanica
EL SILICIO POLICRISTALINO, MATERIAL BASICO EN EL DESARROLLO DE MEMS (MICRO-ELECTRO-MECHANICAL-SYSTEMS), HA SIDO ESTUDIADO DESDE PUNTO DE VISTA ESTRUCTURAL Y MECANICO MEDIANTE ESPECTROSCOPIA RAMAN, UTILIZANDO SIMULACIONES BASADAS EN EL MODELO DE CORRELACION ESPACIAL Y PRESENCIA DE ESFUERZOS. SE HA UTILIZADO TAMBIEN OTRAS TECNICAS COMPLEMENTARIAS (MEDIDAS DE CURVATURA, XRD, TEM, AFM) CON EL FIN DE CORROBORAR LOS RESULTADOS DE ESPECTROSCOPIA RAMAN.
SEGUN LA MORFOLOGIA DE LAS CAPAS DE POLISILICIO, BASICAMENTE EL TAMAÑO DE GRANO Y LOS DEFECTOS EN EL MATERIAL, SE PRESENTAN DIFERENTES SITUACIONES QUE SE HAN MODELIZADO:
A) POLISILICIO CON ESFUERZO UNIFORME B) POLISILICIO CON ESFUERZO MECANICO UNIFORME Y CON CONFINAMIENTO ESPACIAL C) POLISILICIO CON DISTRIBUCION DEL ESFUERZO Y CONFINAMIENTO ESPACIAL.
EL CONOCIMIENTO ADQUIRIDO NOS PERMITE PREDECIR EL COMPORTAMIENTO DE ESTRUCTURAS MICROMECANICAS CONSTRUIDAS EN POLISILICIO Y EL GRADIENTE DEL ESFUERZO HA SIDO VALIDADO MEDIANTE LA DIFRACCION DE RAYOS-X. LA INFLUENCIA DE PARAMETROS TECNOLOGICOS DE DOPAJE Y POST PROCESO SOBRE LAS CARACTERISTICAS MECANICAS DE LAS CAPAS HA SIDO ESTUDIADO.
