Caracterizacion y transformacion estructural de polvo nanometrico de silicio obtenido en plasmas de radiofrecuencia
- Autores: Josep Costa i Balanzat
- Directores de la Tesis: Enric Bertran Serra (dir. tes.)
- Lectura: En la Universitat de Barcelona ( España ) en 1996
- Idioma: español
- Tribunal Calificador de la Tesis: José Luis Morenza Gil (presid.), Fausto Sanz (secret.), Pere Roca Cabarrocas (voc.), Santiago Suriñach Cornet (voc.), Jaume Esteve Tintó (voc.)
- Materias:
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- Resumen
EN ESTE TRABAJO SE PRESENTA UN ESTUDIO DE LAS PARTICULAS NANOMETRICAS QUE SE FORMAN EN PLASMAS DE BAJA TEMPERATURA Y BAJA PRESION DE MEZCLAS DE GASES QUE CONTIENEN SILANO.
SI BIEN EL INTERES POR EL ESTUDIO DE LA FORMACION DE POLVO EN ESTE TIPO DE PLASMAS NACIO PORQUE ESTAS PARTICULAS REPRESENTABAN LA PRINCIPAL FUENTE DE CONTAMINACION DE LOS PROCESOS DE LA MICROELECTRONICA, HOY EN DIA ES SU POSIBILIDAD DE APLICACION EN LOS NUEVOS MATERIALES QUIEN MOTIVA SU ESTUDIO.
EN ESTE TRABAJO SE ESTABLECEN LAS PRINCIPALES CARACTERISTICAS DEL POLVO FORMADO A PARTIR DE UN PLASMA DE SILANO. ESTE NUEVO MATERIAL CONSISTE EN PARTICULAS DE TAMAÑO ENTRE 10 Y 150 NM, DE FORMA ESFERICA Y QUE APARECEN MUY AGLOMERADAS. SU ESTRUCTURA ES AMORFA Y EL CONTENIDO DE HIDROGENO MUY ELEVADO Y ENLAZADO AL SILICIO FORMANDO CADENAS DE TIPO POLIMERICO. EN UNA SEGUNDA PARTE DEL TRABAJO SE DESCRIBEN LOS PROCESOS QUE ESPONTANEAMENTE O INDUCIDOS EXTERNAMENTE PUEDEN ALTERAR LAS CARACTERISTICAS MICROESTRUCTURALES DEL POLVO NANOMETRICO DE SILICIO. TAMBIEN SE DESCRIBEN LAS PROPIEDADES FOTOLUMINISCENTES DEL POLVO DE SILICIO RECRISTALIZADO Y SU DINAMICA DE EXCITACION SE MODELIZA DE ACUERDO A UN PROCESO MULTIFOTON Y MULTIETAPA.
