En la presente memoria se recoge el diseño, instalación y puesta a punto del equipamiento básico para la obtención de recubrimientos cerámicos sobre un soporte conductor mediante la técnica de deposición electroforética a partir de suspensiones coloidales.
En primer lugar se han seleccionado y caracterizado los materiales utilizados (polvos cerámicos y substratos) para llevar a cabo el estudio de esta técnica de conformado de capas cerámicas y hacer extensivas las conclusiones de este trabajo al diseño de otro tipo de estructuras. De esta forma se han utilizado AI2O3 e Y-TZP como polvos cerámicos y Zn, Ni y Grafito como substratos.
Para los distintos sistemas recubrimiento/substrato considerados, se ha profundizado en el estudio de la obtención de un depósito homogéneo de espesor controlado.
La formación de un depósito de estas caracteristicas viene determinada por dos grupos de parámetros, uno relaciona las propiedades coloidales y eléctricas de la suspensión con la viabilidad del proceso, y el otro relaciona las condiciones impuestas sobre el sistema (densidad de corriente y tiempo de deposición) con los fenómenos que derivan de ellas y que afectan a la homogeneidad del depósito, como la contaminación metálica por corrosión del electrodo y la electrólisis del agua.
Posteriormente, se ha realizado un amplio estudio sobre la cinética y el rendimiento del proceso.
El control de los distintos parámetros que intervienen en el proceso de EPD ha permitido diseñar y preparar materiales de microestructura compleja como los laminados AI2O3/Y-TZP.
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