Preparación y caracterización de nanoestructuras de si-c-n obtenidas por plasma rf
- Autores: Gregorio Viera Mármol
- Directores de la Tesis: Enric Bertran Serra (dir. tes.)
- Lectura: En la Universitat de Barcelona ( España ) en 2000
- Idioma: español
- Tribunal Calificador de la Tesis: José Luis Morenza Gil (presid.), José Luis Andújar Bella (secret.), Salvador Martínez Bella (voc.), Agustín Rodríguez González-Elipe (voc.), Pere Roura i Grabulosa (voc.)
- Materias:
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- Resumen
Esta Tesis Doctoral han versado sobre la preparación y caracterización de sistemas nanoestructurados de Si y de sus compuestos con C y N, mediante la tecnología de depósito químico en fase vapor asistido por plasma PECVD, y ha represenado una continuidad a los estudios anteriores sobre nanopartículas de polvo de Si obtenidos por esta técnica.
La primera parte de este trabajo se ha centrado en el estudio de la síntesis de nanopartículas basadas en el sistema químico Si-C-N a partir de plasmas de RF de SiH4+CH4+NH3 de baja presión y baja temperatura, y en la posterior caracterización morfológica, estructural y química de estos materiales. Este estudio se ha enfocado hacia el efecto que ejercen los parámetros tecnológicos del proceso de síntesis sobre las propiedades de las nanopartículas. En la mayoría de los casos, al ajsutar los parámetros tecnológicos para controlar el tamaño, se ha tratado de alcanzar una situación de compromiso que han permitido obtener partículas nanométricas, con poca dispersión de tamaño y con mínmo consumo de energía de excitación y de gas precursos, y al mismo tiempo, con mejores características estructurales.
Se ha demostrado que se pueden obtener nanopartículas multicompionenetes basadas en el sistema químico Si-C-N, con tamaño y esterquiometría controlados a partir de los parámetros del plasma. Sin embargo, las nanopartículas así formadas contienen un elevado contenido de hidrógeno y una elevada porosidad,lo que provoca que éstas reaccionen con las moléculas del ambiente y se oxiden espontánemente. Por lo tanto ha sido necesario un tratamiento " a-posterior" que mejorara la estructura de las partículas obtenidas por plasma.
En la segunda parte de este trabajo se han analizado las nanopartículas de Si-C-N sometidas a diversos tratamientos térmicos, con el propósito de conseguir la estabilización química de estos materiales y para explorar los posibles fenómenos
