Protectores fotoliticos e hidroliticos de feromonas aldehidicas. Obtencion y es tudio de su emision controlada
- Autores: Luisa Ceita Builelo
- Directores de la Tesis: Ramón Mestres Quadreny (dir. tes.)
- Lectura: En la Universitat de València ( España ) en 1998
- Idioma: español
- Tribunal Calificador de la Tesis: Luis Castedo Expósito (presid.), Juan Alberto Marco Ventura (secret.), Pelayo Camps García (voc.), Ismael Casinos Usach (voc.), Jaime Primo Millo (voc.)
- Materias:
- Texto completo no disponible (Saber más ...)
- Resumen
El presente trabajo ha pretendido la erradicación de las plagas por la obtención de un insecticida biológico.
A tal fin: Se han obtenido o-nitroarilglicoles sustituídos como protectores fotolíticos de feromonas aldehíicas. Se han obtenido o-nitrofenildioxolanos monoméricos del decan al, p-clorobenzaldehido, p-nitrobenzaldehido y de la acetona y se ha estudiado su capacidad de liberación fotolítica.
Se ha estudiado, por espectroscopía UV, la constante de velocidad de liberación fotolítica de 2,2-dimetil-o-nitroarildioxolanos por irradiación con luz UV.
Se ha obtenido o-nitroarildioxolanos poliméricos por anclaje del grupo activo a la resina de Merrifield y se ha estudiado su capacidadcomo protectores fotolíticos en vistas a una posible aplicación tecnológica.
Se han obtenido cetoles de la acetofenona, propiofenona y butirofenona con el decanal y se ha demostrado que la fotolisis por irradiación de cetoles no es un buen método de protección y liberación de aldehidos.
Se han obtenido w-cloroaldehidos, w-cloro- 2-metilaldehidos y w-clorocetonas como sintones para la obtención de feromonas.
