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Optimización de recubrimientos de hidroxiapatita (ha) sobre titanio por ablación láser. La aplicación de un campo electrónico y una capa intermedia

  • Autores: Ernesto Jiménez Villar
  • Directores de la Tesis: Betty Mireya León Fong (dir. tes.), Jorge Luis Arias Otero (codir. tes.)
  • Lectura: En la Universidade de Vigo ( España ) en 2003
  • Idioma: español
  • Tribunal Calificador de la Tesis: Francisco Javier Gil Mur (presid.), Juan María Pou Saracho (secret.), Stefano Chiussi (voc.), Stefano Marelli (voc.), Fernando Jorge Mendes Monteiro (voc.)
  • Texto completo no disponible (Saber más ...)
  • Resumen
    • En este trabajo se introdujo la utilización de una capa previa de el mismo material HA antes del depósito en si, demostrándose que la introducción de dicha capa previa evita la oxidación de la superficie (TiO2 rutilo), responsable de la périda de adherencia. Sin embargo, la difusión de hidrógeno y la consiguiente formación de las fases TiH(0.71) y Tix deterioran también la adherencia.

      Se variaron independientemente los parámetros de procesamiento fluencia (E T), temperatura del substrato (T S), presión (P VH) y el flujo (F V).

      El F V como parámetro independiente de P VH, es la primera vez que ha sido tratado en este campo de la ablación láser de HA.

      Además, se han aplicado, por primera vez en este campo de trabajo, descarga eléctricas durante el proceso de depósito, obteniéndose películas cirstalinas y adherentes a temperaturas tan bajas como 300ºC.

      Para explicar los resultados obtenidos:

      Se introdujo el concepto de Presión Instantánea de Depósito P ID y el modelo del pisto. La cual permite explicar la formación de las fases TiH(0.71) y la HA altamente cristalina.

      Se diferenciaron dos mecanismos diferentes de disociación de las moléculas de agua: continua y pulsada, a través de los cuales se produce el OH- que se incorpora a las películas de HA.

      Se propusieron difernetes mecanismos para explicar la difusión de H y la consiguiente formación de las fases TiH(0.71) y Tix.

      Se introdujo el modelo del flujo para explicar los efectos relacionados con este parámetro.

      Los resultados obtenidos con la aplicación de descarga eléctricas con el resultado de que, éstas favorecen la disociación de las moléculas de agua y la incorporación de OH- a la estructura en crecimiento. Además, las descargas eléctricas originan también un bombardeo electrónico sobre la superficie en crecimiento que favorece la movilidad de los átomos sobre ésta y con ello la cristalinidad de las películas.

      Se ha demos


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