Litografía contemporánea en EE.UU.: desarrollo técnico y expresivo
- Autores: Alfonso Julián Sánchez Luna
- Directores de la Tesis: José Manuel Guillén Ramón (dir. tes.)
- Lectura: En la Universitat Politècnica de València ( España ) en 2000
- Idioma: español
- Tribunal Calificador de la Tesis: Antonio Tomás Sanmartín (presid.), Antonio Alcaraz Mira (secret.), Juan Carlos Ramos Guadix (voc.), José Ramón Alcalá Mellado (voc.), José María Herrero Gómez (voc.)
- Materias:
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- Resumen
Se trata de un trabajo de investigación que se inicia con mi estancia en el Tamarind Instituye de la Universidad de Nuevo Mexico y en el que se reflexiona sobre la obra grafica contemporanea, y concretamente sobre la litografia en EE.UU. En el periodo comprendido entre los años setenta y los noventa, dada la importancia y la influencia que ha ejercido ese periodo en el grabado actual.
Se utilizan los antecedentes y formación de las lineas expresivas en la obra gráfica de los años sesenta, el entorno historico-artistico, los artistas, master-printers, talleres e instituciones educativas más representativos de las últimas décadas.
En el tercer capítulo de la tesis, se analizan las técnicas litográficas en función de las líneas expresivas de la vanguardia norteamericana, y en el cuarto, algunas tecnicas litograficas innovadoras como el toner xerográfico en polvo y su utilización en litografia, la siligrafia o litografia sin agua o la litografia sobre plantas polimétalicas.
Se describen los materiales y los diferentes procesos de trabajo, principalmente las experiencias de Nik Semenoff y otros investigadores norteamericanos como Veda Ozelle y Dale Bradley.,Y la idoneidad de estas tecnicas litográficas.
Se adjunta al final de la tesis un glosario de términos y una bibliografia especifica.
