Periodo de publicación recogido
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A-HOUSE (Kai, Yamanashi, Japan)
Kubota Katsufumi, K. Tanaka (fot.)
GA. Global architecture: Houses, ISSN 0913-1639, Nº. 129, 2013, págs. 126-137
High quality gate insulator film formation on SiC using by microwave-excited high-density plasma.
K. Tanaka, H. Tanaka, A. Teramoto, S. Sugawa, T. Ohmi
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 786-789
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