Influence of reactor walls on plasma chemistry and on silicon etch product densities during silicon etching processes in halogen-based plasmas

• Autores: G. Cunge, M. Kogelschatz
• Localización: Plasma sources: science & technology, ISSN 0963-0252, Nº. 3, 2004, págs. 522-530
• Idioma: inglés
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