Improvement of a microwave ECR plasma source for the plasma immersion ion implantation and deposition process

• Autores: H. Wu, H. Zhang
• Localización: Plasma sources: science & technology, ISSN 0963-0252, Nº. 3, 2004, págs. 420-423
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)