Determination of the V function for CR-39 by atomic force microscope

• K.N. Yu ^[1] ; J.P.Y. Ho ^[1] ; D. Nikezic ^[1] ; C.W.Y. Yip ^[1]
  1. [1] City University of Hong Kong

     City University of Hong Kong

     RAE de Hong Kong (China)

     
• Localización: Recent Advances in Multidisciplinary Applied Physics: Proceedings of the First International Meeting on Applied Physics (APHYS-2003) October 13-18th 2003, Badajoz, Spain / A. Méndez Vilas (dir.), Formatex Research Center (dir.), 2005, ISBN 978-0-08-044648-6, págs. 29-34
• Idioma: español
• Texto completo no disponible (Saber más ...)
• Resumen
  • español

    En el presente trabajo, se determinó la función V (= Vt/Vb, relación entre la velocidad de grabado de la pista y la velocidad de grabado de la masa) de las partículas alfa en el detector CR-39. Se irradiaron los detectores CR-39 con partículas alfa de diferentes energías, en un intervalo de 0,5 a 5,1 MeV. Los detectores CR-39 fueron irradiados con partículas alfa de diferentes energías en el rango de 0,5 a 5,1 MeV. Tras la irradiación, los detectores se grabaron en una solución acuosa 6,25 N de NaOH mantenida a 70 °C mediante un baño de agua durante 15 min, tiempo muy inferior al empleado normalmente para el grabado. Se utilizó microscopía de fuerza atómica (AFM) para medir las longitudes de las pistas con el fin de calcular V. Las energías alfa correspondientes se convirtieron en rangos en el detector CR-39 utilizando el software SRIM. Nuestros valores de V se basaron en un tiempo de grabado muy corto y en mediciones directas, por lo que la función V determinada debería ser más precisa.

  • English

    In the present work, the V function (= Vt/Vb, ratio between the track etch rate and the bulk etch rate) of alpha particles in the CR-39 detector was determined. CR-39 detectors were irradiated with alpha particles with different energies in the range 0.5 to 5.1 MeV. After irradiation, the detectors were etched in a 6.25 N aqueous solution of NaOH maintained at 70 °C by a water bath for 15 min, which was much shorter than the normally employed etching time. Atomic Force Microscopy (AFM) was used to measure the track lengths in order to calculate V. The corresponding alpha energies were converted into ranges in the CR-39 detector using the SRIM software. Our V values were based on very short etching time and direct measurements, so the determined V function should be more accurate.