Relevance of mask-roughness-induced printed line-edge roughness in recent and future extreme-ultraviolet lithography tests

• Autores: P. P. Naulleau
• Localización: Applied optics: A publication of the Optical Society of America, ISSN 0003-6935, Nº. 20, 2004, págs. 4025-4032
• Idioma: inglés
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