Elaboración y caracterización física de películas semiconductoras de silicio amorfo

• Fernández Chillcce, Enver ^[1] ; Eyzaguirre Gorvenia, Carmen ^[1] ; Valera Palacios, Aníbal ^[1]
  1. [1] Universidad Nacional de Ingeniería

     Universidad Nacional de Ingeniería

     Perú

     
• Localización: TECNIA, ISSN-e 2309-0413, ISSN 0375-7765, Vol. 9, Nº. 1, 1999, págs. 69-79
• Idioma: español
• Títulos paralelos:
  • Preparation and physical characterization of amorphous silicon semiconductor films
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• Resumen
  • español

    En este trabajo se presenta el resultado de la elaboración y caracterización de películas finas de silicio amorfo. Las películas fueron obtenidas por el Método de Descarga plasmática reactivo y a diferencia de otros trabajos realizados anteriormente por el mismo método, muestran muy buena calidad óptica, lo que ha permitido derivar los parámetros ópticos del material (índices de refracción y coeficientes de absorción), en un gran rango espectral. Se complementan los resultados con la determinación de algunas propiedades eléctricas. (Mediciones de conductividad y efecto Seebeck).

  • English

    In this work, we present our first results in the elaboration and characterization of thin film amorphous silicon (a-Si: H). The films were obtained by an original reactiv “DC glow discharge” process, which, compared to other results obtained with the same equipment, show now very Good optical quality. This goal allows us the measurement of the optical parameters (n, k) of our probes in a great spectral range. At this report, we show also some complementary results related to the semiconductor behaviour as the electrical conductivity and seebeck effect.