An Ultraviolet-Curable Mold for Sub-100-nm Lithography

• Autores: Pil J. Yoo, Hong H. Lee, Seung J. Baek, Tae W. Kim
• Localización: Journal of the American Chemical Society: JACS, ISSN 0002-7863, Vol. 126, Nº. 25, 2004, págs. 7744-7745
• Idioma: inglés
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