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Cinética de crecimiento de nanopartículas de CdS conformado microestructuras las cuales fueron depositadas por PVD sobre sustratos metálicos

    1. [1] Universidad Autónoma de Nuevo León

      Universidad Autónoma de Nuevo León

      México

  • Localización: Química Hoy, ISSN-e 2007-1183, Vol. 1, Núm 1, 2010 (Ejemplar dedicado a: Octubre-Diciembre 2010), págs. 27-32
  • Idioma: español
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  • Resumen
    • En este trabajo se presentan los resultados del estudio cinético de crecimiento de nanopartículas deCdS obtenidas vía microondas. Éstas fueron posteriormente depositadas sobre sustratos metálicos. Para la preparación de las nanopartículas se utilizaron soluciones de TM, CdCl2 y KOH ajustando el pH a 8, estas soluciones se irradiaron en un sistema de microondas a 1320W por un tiempo de un minuto. La deposición de las nanopartículas sobre sustratos metálicos se llevó a cabo en un sistema de deposición física, para lo cual se utilizó un horno tubular a una temperatura de 900ºC con una rapidez de calentamiento de 1 0ºC/min y un tiempo de residencia de 2 horas, todo en atmósfera de Ar. Los sustratos metálicos utilizados fueron de acero al silicio y al manganeso. El estudio cinético se realizó mediante UV-Vis, encontrándose un crecimiento en tres etapas, obedeciendo a una ecuación tipo ( 1-n )(ln-lnr)-ln(n-1 )=lnK + lnt, donde la res el radio de las nanopartículas, tes el tiempo la k la n la otra y la otra. Los depósitos mostraron una influencia de la morfología desarrollada en funcióndel tipo de sustrato utilizado, obteniendo películas delgadas en los aceros al silicio, y morfologías tipo aguja en los aceros al manganeso.


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