Resumen de Review of Nitride-Based Multifunctional PVD-Deposited Coatings

Luis-Carlos Ardila Tellez, Giovany Orozco Hernandez, Fredy Estupiñan Mongui, Carlos-Mauricio Moreno Téllez, John Jairo Olaya Flórez

• español

  El éxito de un recubrimiento funcional está intrínsecamente ligado al mejoramiento de sus propiedades superficiales, ya que es la superficie la que estará en contacto directo con el entorno y los esfuerzos mecánicos en caso de que el material sea usado en aplicaciones de desgaste, fatiga o corrosión severos. Se ha demostrado, por ejemplo, mediante el aumento de las propiedades mecánicas, que factores como la dureza superficial aumentan la durabilidad del sistema recubrimiento/sustrato. En consecuencia, las investigaciones actuales sobre el diseño y desarrollo de recubrimientos multifuncionales para ingeniería de superficies dentro de sistemas mecánicos deben abordar las técnicas de tratamientos y modificaciones superficiales. Este artículo es una revisión bibliográfica sobre recubrimientos con aplicaciones industriales en relación con los nitruros metálicos de transición depositados con técnicas de deposición física en fase de vapor (PVD) como el sputtering y el arco catódico.

• English

  The success of a functional coating is intrinsically linked to the improvement of its surface properties, as it is the surface that will be in direct contact with the environment and mechanical stresses when the material is used in severe wear, fatigue, or corrosion applications. It has been shown, for example, by increasing mechanical properties, that factors such as surface hardness increase the durability of the coating/substrate system. Consequently, current research on the design and development of multifunctional coatings for surface engineering within mechanical systems must address surface treatment and modification techniques. This article is a bibliographic review of coatings with industrial applications regarding transition metal nitrides deposited with physical vapor deposition (PVD) techniques such as sputtering and cathodic arc.