Overview of the impact of downscaling technology on 1/f noise in MOSFETs to 90 nm

• Autores: M. Valenza, A. Hoffmann
• Localización: IEE Proceedings: Circuits, devices and systems, ISSN 1350-2409, Vol. 151, Nº 2, 2004, págs. 102-110
• Idioma: inglés
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