Nuevo barniz con tecnología CicloTech® para alteraciones estructurales y estéticas de las uñas: RegeNail®

• Francisco Javier Otero ^[1] ; Soledad Anguiano Igea ^[1] ; Elena Cutrín Gómez ^[1] ; Francisco Fernández ^[2]
  1. [1] Universidade de Santiago de Compostela

     Universidade de Santiago de Compostela

     Santiago de Compostela, España

     
  2. [2] Director de Desarrollo Galénico. Laboratorios Reig Jofre.
• Localización: Más dermatología, ISSN 1887-5181, Nº. Extra 1, 2022, págs. 34-47
• Idioma: español
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