Cleavage of the SiO¿Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>H bond in Si<sub>8</sub>O<sub>20</sub>[Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>H]<sub>8</sub>
- Autores: Toshio Takayama, Wataru Imamura, Isao Hasegawa
- Localización: Inorganic chemistry communications, ISSN 1387-7003, Vol. 7, Nº 4, 2004, págs. 513-515
- Idioma: inglés
- Texto completo no disponible (Saber más ...)
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