Improvement of Catalyst Durability by Deposition of Rh on hO2 in Photooxidation of Aromatic Compounds

• Autores: David W. Hisahiro Einaga, David W. Takashi Ibusuki, David W. Shigeru Futamura
• Localización: Environmental science & technology, ISSN 0013-936X, Nº. 1, 2004, págs. 285-289
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)