En el presente trabajo se analiza la distribución de sitios activos durante el proceso de absorción de Co o Ni sobre y -Al2O3. Los descriptores de reactividad global indican que el comportamiento nucleofílico sigue el orden y Al2O3>Co/y-Al2O3>Ni/y-Al2O3. El valor de dureza global indica que el sistema Co/ y-Al2O3 es el mas reactivo de los sistemas analizados. Por otro lado, el valor de la función de Fukui indica que los sitios electrofílicos están ubicados en los átomos de oxigeno, los sitios nucleofílicos en los átomos de aluminio, mientras que los sitios susceptibles de ataques por radicales libres se ubican en los átomos de oxígeno y aluminio. En el caso de Co/y-Al2O3 and Ni/y-Al2O3, los sitios más reactivos hacia ataques electrofílicos, nucleofílicos y por radicales libres se localizan principalmente en los átomos de Co y Ni, respectivamente.
En el present treball, s'analitza la distribució de llocs actius durant el procés d'absorció de Co o Ni sobre y-Al2O3. Els descriptors de reactivitat global indiquen que el comportament nucleofílic segueix l'ordre y-Al2O3>CO/ y-Al2O3>Ni/y-Al2O3. El valor de duresa global indica que el sistema CO/ és el més reactiu dels sistemes analitzats. D'altra banda, el valor de la funció de Fukui indica que els llocs electrofílics estan ubicats en el àtoms d'oxigen, els nucleofílics en els àtoms d'alumini, mentres que els llocs susceptibles d'atacs per radicals lliures es van situar en els àtoms d'oxigen i alumini. En el cas de CO/y-Al2O3 i Ni/y-Al2O3, els llocs més reactius cap a atcs electrofílics, nucleofílics i per radicals lliures es van localitzar principalment en els àtoms de Co i Ni, respectivament.
In the present work, we have analyzed the distribution of active sites on Al O32 caused by the adsorption process of either Co or Ni. The global reactivity descriptors indicate that the nucleophilic behavior follows the order Al O32 >Co/ Al O32 > Ni/ Al O32 . Also, the hardness value indicates that the system Co/ Al O32 is the more reactive of the systems analyzed. The value of the Fukui function indicates that in Al O32 the electrophilic sites are located on oxygen atoms, the nucleophilic sites are on aluminum atoms, while the sites to free radical attacks are placed on oxygen and aluminum atoms. In the case of Co/ Al O32 and Ni/ Al O32 .the more reactive sites for electrophilic, nucleophilic and free radical attacks were located mainly on the Co and Ni atoms, respectively.
© 2001-2024 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados